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1.晶圓清洗工藝中的超純水輸送
在半導體制造過程中，晶圓清洗需要用到電阻率高達18.2 MΩ·cm的超純水（UPW）。PFA管因其較低的離子析出特性（如金屬離子析出量<0.1 ppb），被廣泛用于UPW輸送系統。例如，在兆半導體級晶圓廠中，PFA管連接超純水制備裝置（如反滲透+EDI系統）與清洗設備，確保輸送過程中不引入任何金屬或有機物雜質，避免晶圓表面污染。此外，PFA管耐高溫特性（可耐受200℃高溫消毒）使其適用于在線高溫清洗（HTO）工藝，有效殺滅細菌并防止生物膜形成。

2.化學機械拋光（CMP）系統中的拋光液輸送
CMP工藝要求拋光液（含納米級研磨顆粒和化學試劑）在輸送過程中保持均勻性和穩定性。PFA管的表面粗糙度低（Ra<0.2μm），可減少顆粒附著，同時其耐腐蝕性可耐受酸堿拋光液（如KOH、NH?OH溶液）。例如，某先進制程芯片廠的CMP設備采用PFA管連接拋光液供應單元，通過優化管道布局和流速設計（通常控制在1-3 m/s），確保拋光液在輸送過程中不分層、不沉淀，從而維持晶圓表面平坦度的均勻性。

3. 特殊工藝液體的精準輸送
在電鍍、濕法刻蝕等工藝中，PFA管被用于輸送含氟酸（如HF）、有機溶劑（如IPA）等高危險性液體。其卓越的耐化學腐蝕性和良好的機械強度（爆破壓力≥5 MPa）確保了系統安全性。例如，在EUV光刻機使用的極紫外光阻液輸送系統中，PFA管結合雙卡套接頭設計，實現零泄漏輸送，同時通過電拋光處理進一步降低表面粗糙度，滿足納米級顆粒控制要求。

4.超高純化學品分配系統（UCDS）
在先進制程中，UCDS需要實現多種高純化學品的精準分配與混合。PFA管的多流體兼容性使其成為理想選擇，例如在將超純氨水、過氧化氫和硫酸混合用于晶圓清洗時，PFA管可耐受混合溶液腐蝕，并通過快速接頭實現模塊化安裝與維護。如：12英寸晶圓廠的UCDS系統采用PFA管構建多點分配網絡，結合在線顆粒監測裝置，確保化學品分配過程中顆粒度控制在Class 1級別。